OLPX ha5200LC – легко очищувальний флюс, підвищеної активності, призначений для підготовчих процесів, лудіння, складання та розбирання електронних компонентів. Він забезпечує ефективне видалення оксидних шарів та забезпечує рівномірне змочування припою навіть на складних поверхнях, залишаючись не корозійним після паяння.
Загальна інформація Назва продукту: OLPX ha5200LC Тип флюсу: Універсальний, легке очищення, висока активність Форма: Гель Застосування: Селективне паяння, SMD компонентыв • Підвищена активність • Високий опір поверхневій ізоляції • Низький потенціал корозії • Відсутність утворення склоподібного залишку • Легке видалення Рекомендується очищення через м’який характер залишку для забезпечення максимальної довгострокової надійності.
Умови зберігання Температура зберігання: від +4 °C до +25 °C Захищати від прямих сонячних променів та вологості Тримати контейнер щільно закритим
Термін зберігання 12 місяців з дати виробництва за умови зберігання в оригінальній упаковці. Варіанти упаковки Шприци: 10 мл
Відгуків ще немає
Станьте першим, хто поділиться своєю думкою!