Матриця силіконова сланець relief-decor S22

Матриця силіконова для декорування стін "Сланець" Relief-Decor S22 (300x610 мм)

Силіконова матриця Relief-Decor S22 призначена для створення реалістичної фактури натурального каменю (сланець) на декоративних штукатурках. Виріб забезпечує ідеальну передачу текстури породи завдяки високій еластичності та армуванню лугостійкою сіткою. Розрахована на професійне використання з ресурсом понад 500 відбитків.

Характеристики:

• Тип: Фактурна матриця (штамп)
• Матеріал: Зносостійкий силікон
• Армування: Лугостійка сітка (запобігає деформації та розтягуванню)
• Розмір: 300 мм х 610 мм
• Товщина: 3 мм
• Рекомендована товщина штукатурного шару: 3-4 мм
• Ресурс роботи: Понад 500 відбитків (еквівалент 100 м² площі)

Переваги товару:

• Точна імітація: Матриця знімає точний відбиток із натурального сланцю, забезпечуючи унікальну геологічну текстуру з дрібними порами та прожилками.
• Еластичність: Силіконова основа легко повторює нерівності стін, дозволяючи формувати рельєф навіть на складних криволінійних ділянках.
• Висока міцність: Завдяки армуючій сітці матриця не рветься і не змінює геометрію при багаторазовому використанні.
• Економічність: Витримує понад 500 циклів нанесення, що робить її ідеальним вибором для великих площ та комерційного використання.
• Стійкість до лугів: Не вступає в реакцію з лужними середовищами (цементні, вапняні та гіпсові суміші).

Інструкція із застосування:

1. Перед початком робіт обов'язково обробіть робочу поверхню матриці антиадгезійним засобом Relief Antiadhesive (придбавається окремо) для легкого відділення від розчину.
2. Нанесіть штукатурну суміш на стіну шаром 3-4 мм.
3. Притисніть матрицю до вологого розчину та рівномірно притисніть для отримання чіткого відбитку.
4. Акуратно відокремте матрицю від поверхні.
5. Після використання промийте матрицю водою без використання агресивних розчинників.

Умови зберігання:
Зберігати в сухому темному місці, уникаючи прямих сонячних променів та джерел тепла. Не допускати перегинів та механічних пошкоджень робочої поверхні.